CVD爐（碳化硅膜） 氣相沉積爐

※產(chǎn)品描述：

CNT公司生產(chǎn)的CVD設(shè)備主要由全真空專用不銹鋼腔體，分子泵高真空系統(tǒng)，電源，生長機體載體及溫控系統(tǒng)，獨立排氣和生長壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)，冷卻循環(huán)水輔助設(shè)備等組成。整機結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設(shè)備控制系統(tǒng)采用邏輯按鈕手動控制與工控機自控控制可選。實現(xiàn)真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設(shè)備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導(dǎo)體及金屬膜等。

 

※技術(shù)指標(biāo)：

 

參 數(shù) 名 稱	單   位	配置
沉積類型		碳化硅，氮化硅
電   源		射頻電源，帶正向功率和反射功率計指示，帶匹配器
加熱系統(tǒng)		平板式雙反應(yīng)室系統(tǒng)，帶加溫和勻氣系統(tǒng)
工 作 溫 度	℃	1300~1800℃
基片臺尺寸	(φ×H)mm	1英寸、二英寸、三英寸、四英寸
基片臺轉(zhuǎn)速		轉(zhuǎn)速0-20RPM
控 溫 精 度	℃	±1
極限真空	pa	6.67.0×10-5
密封系統(tǒng)		磁流體密封
水冷、氣路系統(tǒng)		冷卻水循環(huán)機、無噪聲氣泵
報警及保護(hù)		對缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報警及相應(yīng)保護(hù)措施
真空系統(tǒng)  （選 配）	真空系列	單級機械泵、擴(kuò)散泵機組、分子泵
	工作腔體	不銹鋼
	氣氛系統(tǒng)	浮子流量計、進(jìn)口、國產(chǎn)質(zhì)量流量計
	記錄裝置	進(jìn)口、國產(chǎn)無紙記錄儀
備注：西尼特可根據(jù)閣下要求提供各種非標(biāo)產(chǎn)品的設(shè)計制造，歡迎來函、來電咨詢！          24小時熱線：400-668-6260   18610138965    Fax:010-51418223   cntdl@sina.com                     http://www.cimitdl.com