本發(fā)明公開(kāi)一種BOE腐蝕的工藝方法，在光刻工藝的刻蝕過(guò)程中，通過(guò)將硅片在酸液中上下運(yùn)動(dòng)后減少腐蝕過(guò)程中依附在硅片上的氣泡量，然后把片架整體提出液面1S，通過(guò)壓力的快速變化，使依附在硅片上的氣泡易于破碎，最后再將硅片放入酸液中繼續(xù)上下運(yùn)動(dòng)，循環(huán)腐蝕12min，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)硅片的腐蝕，同時(shí)，本發(fā)明中是通過(guò)BOE腐蝕槽來(lái)對(duì)硅片進(jìn)行腐蝕，通過(guò)使腐蝕液循環(huán)流動(dòng)，保持在腐蝕過(guò)程中內(nèi)槽內(nèi)各位置腐蝕液的濃度保持一致，同時(shí)，流動(dòng)的腐蝕液能夠?qū)⒁栏皆诠杵系臍馀萃耆虼蟛糠秩コ嵘杵g的一致性，降低腐蝕過(guò)程中生成的氣泡對(duì)腐蝕效果的影響。
