高安半導體超純水設備,化妝品制造純水設備廠家

超純水設備反滲透膜化學清洗后的沖洗，要用清潔水（一般采用反滲透的產品水或至少是軟化后的去離子水）進行低壓沖洗。先排放并沖洗藥液箱，然后再用清潔水完全注滿清洗箱以作沖洗之用。從清洗箱中泵入所有的沖洗水沖洗反滲透膜壓力容器至排放。如果需要，可進行第二次清洗。一旦RO系統已用清洗箱中的清潔水完全沖洗后，就可用預處理給水進行低壓沖洗。給水壓力應低于60psi（4bar），沖洗持續進行直至沖洗水干凈，且不含任何泡沫和清洗劑殘余物。通常這需要15-30分鐘左右甚至更長。操作人員可用干凈的燒瓶取樣，搖勻，監測排放口處沖洗水中洗滌劑和泡沫的殘留情況。洗液的去除情況可用測試電導的方法進行，如沖洗水至排放出水的電導在給水電導的10~20%以內，可認為沖洗已接近終點；pH表或試紙也可用于測定，來比較沖洗水至排放出水與給水的pH值是否接近。一旦所有級段已清洗干凈，且化學藥劑也已沖洗掉，純水設備可重新開始置于運行程序中，但初始的產品水要進行排放并監測，直至RO產水可滿足工藝要求（電導、pH值等）。為得到穩定的RO產水水質，這一段恢復時間有時需要從幾小時到幾天，尤其是在經過高pH清洗后。超純水設備整體自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能。高安半導體超純水設備,化妝品制造純水設備廠家

超純水設備是采用預處理、反滲透技術、EDI裝置以及后級拋光混床處理等方法，將水中的導電介質幾乎完全去除。

??超純水設備新系統投入運行請應啟動檢查項目。1、所有管路、設備及連接件應符合設計壓力；2、保安過濾器內已經安裝了清潔的濾芯；3、預處理設備已反沖洗及沖洗干凈，保證出水達到設計要求，其中SDI<5、濁度<1NTU、余氯<0.1ppm、溫度<45℃、pH=3~10。4、調整高壓泵出水閥或旁通調節閥開度，控制膜系統進水流量小于操作運行進水量的50%;5、各加藥箱內及其濃度準確可靠，各添加裝置的設置和運行狀態正確，正確設定了聯鎖及報警裝置；6、所有的儀表都安裝正確并進行了校正；7、安裝了壓力安全泄放閥，設定正確，采取了措施保證產品水壓力不會超過進水或濃水壓力0.3bar(5psi);8、高壓和低壓保護裝置的設置正確；9、在預處理時使用了氧化劑殺菌時，保證這些氧化劑在進入反滲透／納濾主機前被完全去除；10、檢查用于膜系統的自控電氣元件是否工作正常。無錫超純水設備作用電鍍領域用超純水設備通常由反滲透裝置、離子交換裝置、EDI裝置等組成，滿足了電鍍用水的需求。高安半導體超純水設備,化妝品制造純水設備廠家

? ? ? 超純水設備預處理系統活性炭的選型。好的活性炭必須具有吸附容量大、使用壽命長、機械強度高、灰份低、易沖洗、出水水質好等特點，它不但能除去異臭、異味、色度，而且對水中的各種有毒有害物質如：氯、酚、汞、鉛、砷、氯化物、洗滌劑、農藥、化肥等污染物具有很高的去除率。具體主要技術指標如下：1、粒度（10—24目）≥95%，說明：通常來說，顆粒越小的活性炭，比表面積越大吸附效果越好，但是顆粒越小，損耗也會越大，粉塵也會越多。2、碘吸附值：≥1000mg/g，說明：一般來說碘吸附值越高，活性炭的吸附能力越強。3、比表面積：1000---1200m2/g說明：若取1克活性炭，將里面所有的孔壁都展開成一個平面，這個面積將達到1000平方米（既比表面積為1000g/m2）！影響活性炭吸附性的主要因素就取決于內部孔隙結構的發達程度。（既比表面積越大，活性炭的吸附效果越好）。4、耐磨強度：≥95%說明：即耐磨損或抗磨擦的性能；強度越高，活性炭性能越好。5、灼燒殘渣：≤3%說明：灼燒殘渣及指灰分，此值越低，活性炭質量越好。6、充填比重：指密度，一般密度越小，活性炭的吸附力越好。品質好的活性炭能較好地保護反滲透膜和EDI系統，延長設備的使用壽命，同時能提高產水的品質。高安半導體超純水設備,化妝品制造純水設備廠家