·描述
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用于半導體器件的擴散、氧化退火、燒結等工藝設備，也可做為磁性材料的燒結工藝，還可適用于機械行業的淬火、冶金業稀土的燒結工藝。高溫真空燒結爐、粉末冶金燒結爐、真空氣氛燒結爐、太陽能燒結爐、微波燒結爐、燒結爐玻璃燒結爐 高溫燒結爐 試驗燒結爐 坩堝燒結爐、熱壓燒結爐、真空熱壓燒結爐、超高溫燒結爐、超高溫反應燒結爐、聚四氟乙稀燒結爐、立式燒結爐、臥式真空爐、燒結爐、陶瓷燒結爐、鏈式爐、擴散系統、真空擴散爐、高溫擴散爐、烘焙排臘爐、單管氫氣爐、真空燒結爐、雙工燒結爐、陶瓷燒結爐、馬弗爐、消磁爐、溫度控制系統、熔封爐、縫焊機、加壓檢漏臺、壓力機、時效爐、氫氣高溫高壓爐、高溫淬火爐、時效爐、釬焊爐、真空氮氣燒結爐
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