16774-21-3硝酸鈰銨溶液經光刻濕法刻蝕工藝

硝酸鈰銨主要用于光刻鉻版流程中的蝕刻環節，憑借其可精確控制的蝕刻性能，幫助形成高精度的圖案，是制作鉻掩膜版、光學鉻版等的關鍵材料。

• 半導體行業：鉻憑借優良導電性、穩定性及金屬附著性，常作半導體電極、布線材料。硝酸鈰銨是集成電路制造中鉻金屬蝕刻液的關鍵成分，可精確控制鉻膜圖形，形成所需電路結構。同時它也能用于蝕刻鈦或氮化鈦等阻擋層，精度高且對硅基底損傷小。
• 顯示技術行業：金屬鉻因電導性佳、熱穩定性好、價格低廉等，常被用于 OLED、液晶顯示裝置等的電極與配線材料。硝酸鈰銨蝕刻液可對鉻金屬膜蝕刻，獲取高精度平滑金屬膜電極或配線，契合顯示器件高精細化、大畫面化的發展需求。
• 光學儀器行業：可用于制造望遠鏡、顯微鏡、攝影鏡頭等中的光學分劃板鉻版。硝酸鈰銨蝕刻線條質量、線性均勻度出色，用其光刻能助力提升儀器成像質量與分辨率。
• 光學濾光片制造行業：在制作黑鉻深截止低反射濾光片等圖形化濾光片時，可用高純度硝酸鈰銨溶液經光刻濕法刻蝕工藝精確腐蝕黑鉻薄膜，用于生產光掩膜、通光光闌等需控制光透過范圍的產品。

中文別名：硝酸鈰(Ⅳ)銨, 硝酸鈰銨二水合物;英文名Diammonium cerium(IV) nitrate

分子式：(NH4)2Ce(NO3)6·2H2O

硝酸鈰銨分子量：584.23

CAS . :16774-21-3

外觀性狀：桔紅色單斜晶系細小結晶，易溶于水，有潮解性，密閉保存。

工業級硝酸鈰銨用途：用于電路板刻蝕劑、醫藥合成、化學試劑等行業。