硝酸鈰銨在銅刻蝕技術中具有重要應用，主要基于其強氧化性，可將銅氧化從而實現刻蝕。相關介紹如下：
刻蝕原理：硝酸鈰銨是一種強氧化劑，化學式為 (NH?)?Ce (NO?)??2H?O6。在銅刻蝕過程中，硝酸鈰銨中的 Ce??具有強氧化性，能將銅單質氧化為銅離子，自身被還原為 Ce3?，反應方程式可表示為：Cu + 2 (NH?)?Ce (NO?)? = Cu (NO?)? + 2 (NH?)?Ce (NO?)?。
蝕刻液組成1：硝酸鈰銨可與硫酸等組成蝕刻液，如一種蝕刻鉻銅金屬的蝕刻液中，包含硫酸、硝酸鈰銨、添加劑和水，其中硫酸濃度為 50-400g/l，硝酸鈰銨濃度為 50-500g/l，添加劑濃度為 1-50g/l。
應用場景：硝酸鈰銨常用于集成電路制造等領域的銅刻蝕工藝。例如在銅互連結構制造中，可采用濕法刻蝕工藝，利用硝酸鈰銨和硝酸的混合液去除相關金屬阻擋層，以便進行后續的銅電鍍等工藝3。它還可用于印制電路板（PCB）制造中，對銅箔進行刻蝕，形成所需的電路圖案。
優點：硝酸鈰銨參與的刻蝕工藝具有一定優勢，如刻蝕速率較快，能夠提高生產效率；可通過調整蝕刻液成分和工藝條件，較好地控制刻蝕速率和刻蝕精度，滿足精細線路制作的要求。
注意事項：硝酸鈰銨是強氧化劑，使用時要避免與有機物、還原劑等接觸，以防發生危險。同時，刻蝕過程中可能會產生一些氮氧化物等有害氣體，需要做好通風等防護措施，確保操作環境安全。
