POLOS 光譜測量儀器用于半導體設備 FR-Mic 系列

POLOS   光譜測量儀器用于半導體設備 FR-Mic 系列

 POLOS 系列
FR-Mic 370 nm - 1700 nm 光譜范圍

實時光譜測量
薄膜厚度、光學特性、不均勻性測量、厚度映射
使用集成的 USB 連接高質量彩色相機進行成像

工作原理：
白光反射光譜 （WLRS） 測量在光譜范圍內從薄膜或多層堆棧反射的光量，入射光垂直于（垂直）樣品表面。

由各個界面的干擾產生的測量反射光譜被用于確定自立式和支撐（在透明或部分/全反射基材上）薄膜堆棧的厚度、光學常數（n & k）等。

 品牌POLOS 系列
產品編號FR-麥克風-370-1700
大小FR-Mic 麥克風
材料臺式系統
厚度范圍15 nm 至 150 μm
光譜范圍370 納米 - 1700 納米
光源 MTBF鹵素燈（內部），3000 小時（不包括在內！

 FR-Mic  是用于快速&準確的涂層表征應用的模塊化光學柱，這些應用需要小至幾微米的光斑尺寸，典型的例子包括（但不限于）：微圖案表面，粗糙表面和許多其他。它可以與專用的計算機控制的XY舞臺結合使用，從而可以快速、輕松且準確地自動映射樣品的厚度和光學屬性。

FR-Mic 提供：
實時光譜測量
薄膜厚度、光學特性、不均勻性測量、厚度映射
使用集成的 USB 連接高質量彩色相機進行成像
 使用 FR-Mic，只需單擊一下，即可在 UV / VIS / NIR 光譜范圍內的任何光譜范圍內對薄膜厚度、光學常數、反射率、透射率和吸光度進行局部測量。

當需要表征大表面時，FR-Mic 可以安裝在 FR-pRo 上，也可以安裝在 FR-pRo 旁邊。

應用：
大學和研究實驗室
半導體（氧化物、氮化物、硅、光刻膠等）

FR-pRo 由用戶選擇的模塊組裝而成。核心單元可容納光源、光譜儀（適用于200 nm - 2500 nm范圍內的任何光譜范圍）以及控制和通信電子設備。然后，有各種各樣的配件，例如：
用于吸光度/透射率和化學濃度測量的膠片/比色皿支架
用于涂層表征的 Film Thickness 套件
用于在受控溫度或液體環境中進行測量的熱敏或液體套件
用于漫反射和總反射的積分球
通過不同模塊的組合，最終設置滿足任何最終用戶的需求。
FR-pRo 系列 
用于涂層表征的模塊化和可擴展平臺
廣泛應用于半導體、大學和研究實驗室、生命科學等領域
 

品牌POLOS 系列
產品編號FR-pRo 系列
材料臺式系統
厚度范圍1 nm 至 120 μm
光譜范圍190 納米 - 1100 納米
光源 MTBF桌面系統


光譜范圍
190 納米 - 1000 納米
190 納米 - 1100 納米
190 納米 - 1700 納米
200 納米 - 1000 納米
200 納米 - 1020 納米
200 納米 - 1100 納米
200 納米 - 1700 納米
200 納米 - 850 納米
370納米 - 1020 納米
370 納米 - 1020 納米
370 納米 - 1700 納米
380 納米 - 1000 納米
380 納米 - 1020 納米
850 納米- 1050 納米
900 納米- 1700 納米
900 納米 - 1050 納米
900 納米 - 1700 納米

POLOS   光譜測量儀器用于半導體設備 FR-Mic 系列