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日本沙磨理工thermo riko無接觸式紅外線真空加熱爐GVH198

公司基本資料信息

產品詳細說明

只有安裝在各種氣氛（例如超高真空或氣流）中的樣品才能通過紅外線精確定位，以快速加熱樣品而不會發生接觸。
它可以輕松連接到真空系統或分析儀。
這是Thermo Riko的主要型號。

	Si和SiC石墨烯等樣品的高速升溫和退火
	氧化氣氛中的氧化物晶體形成和薄膜形成
	在氫氣和氮氣中加熱基材
	在X射線或紫外線照射下樣品的溫度升高
	在分析儀中加熱樣品，例如加熱的解吸氣體分析儀，XPS，XRD，PLD等。
	在磁場中加熱，在非磁場中加熱
	在加壓氣氛中加熱
	加熱樣品

紅外線引入加熱裝置根據應用具有以下規格。

超高真空型	它支持 10 ^-9 Pa的超高真空。
高速升溫型	最大溫度上升率可以實現150°C /秒的高速溫度上升。
常溫加熱型	對于放置在大氣中的樣品，可以進行點加熱。
加壓氣氛類型	可以加熱壓力在10個大氣壓以下的樣品。
特殊功能	利用GV系列的功能，我們可以滿足各種要求，例如快速降溫，負載加熱和在磁場中加熱。請隨時與我們聯系。
CE標志合格	我們還生產符合CE標志的規范。

原理圖

超高真空型GVH

高速升溫型GV / GVL

加壓氣氛類型GVP

	快速退火紅外引入加熱系統GV1 / GV2
	底部照射型紅外線熱處理裝置RTA198 / RTA298
	熱溫解吸氣體分析儀GV2H
	紅外引入加熱系統，用于在磁場中加熱樣品GVL298M / GV154M / GV-M 1
	X射線地形圖的紅外線導入加熱裝置
	XPS設備安裝示例

它由紅外導入主體，多端口真空室，溫度控制器等組成，可以在超真空下以超高速升高樣品的溫度。
由于端口很多，因此可以用于各種實驗。

可以進行干凈的加熱，并且可以通過打開和關閉真空室的前門來取出和取出樣品。

[應用]-
在真空/氣體氣氛中連續控制樣品的溫度上升/
下降-樣品表面加熱和背面冷卻的快速上升
/ 下降測試（可選）-在加壓氣氛中加熱（可選）

它由紅外線引入加熱裝置，小型真空室，溫度測量樣本單元，恒定值溫度控制器等組成。

通過用來自底表面的紅外線在真空室中照射樣品，可以進行樣品的清潔加熱和快速退火。
您可以從反應室頂部的觀察窗觀察并觀察溫度升高期間的樣品。

它由超高真空型紅外引入加熱裝置，超高真空室，質量分析儀，電源/安全電路單元和真空排氣裝置組成，可以分析從高溫樣品中產生的痕量氣體。 ..

紅外線導入加熱裝置在真空室內具有熱源，不產生氣體，可以進行干凈的加熱，可以進行高精度的分析。

它也是磁場中樣品熱處理的理想選擇。
[特點]-
清潔加熱，不會因電磁感應而影響樣品，因為它被光加熱-
只能精確加熱樣品，不加熱磁體。

還可以在真空或氣體氣氛中在磁場中升高溫度。
它可以連接到各種電磁體和超導磁體。

加熱后的樣品與可控氣氛的石英芯管一起插入磁體孔中。
在樣品溫度為1000°C時，孔內壁溫度為40°C或更低。

在高真空的X射線照射過程中，樣品被加熱到超高溫。
（紅外線是從左上和右下對角線方向發出的，而線X是從左上和水平方向上發出的。）

真空室安裝在XY工作臺，旋轉工作臺和旋轉工作臺上，可以在加熱，保持或降低樣品的同時從任何角度進行晶體結構分析。

交貨地點：Spring-8

許多紅外線引入加熱設備與各種分析儀結合使用。

這是在XPS上安裝GVL298類型的示例。
樣品的溫度通過紅外輻射升高，并且樣品中所含的水和氣體被去除和清潔。
通過超高真空中的傳輸桿將樣品移至照片右側的XPS分析室，然后施加X射線進行表面分析。

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