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        廢水處理相對較容易的高速光亮鍍錫

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        產品價格: 10/人民幣 
        最后更新: 2019-10-16 09:48:29
        產品產地: 佛山
        發貨地: 佛山 (發貨期:當天內發貨)
        供應數量: 不限
        有效期: 長期有效
        最少起訂: 1
        瀏覽次數: 1317
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      1. 公司基本資料信息
      2.  
        產品詳細說明

        高速光亮純錫

        (一) 特點

         

        StannoPure HSB 高速光亮純錫是一種不含氟硼酸根、低泡沫的純錫工藝。適用于片狀、線狀或連接器的連續生產電鍍。

         

        StannoPure HSB 高速光亮純錫能產生良好均一的結晶、光亮的無鉛純錫鍍層,可焊性

         

        StannoPure HSB 高速光亮純錫專為純錫電鍍而研發的工藝,通常用于電子電器裝置,以取替鉛錫電鍍工藝,及迎合禁用含鉛鍍層的國際要求。

         

        StannoPure HSB 高速光亮純錫與其它光錫工藝相比,晶須產生的機會比較低。

         

        StannoPure HSB 擁有以下優點

         

        操作容易

         

        此工藝能通過簡單分析作維護;產生四價錫較少。

         

        穩定的添加劑

         

        添加劑能用在廣闊的溫度范圍內。

         

        簡單的廢水處理

         

        因為鍍液不含氟硼酸根,所以廢水處理相對較容易;對設備的侵蝕也減少。

         

        (二)鍍液組成及操作條件

         

        建議100升開缸量

        甲基磺酸液 SOLDERPLATE(945 克/升游離甲基磺酸)

        16.0

        21.6

        甲基磺酸錫 SOLDERPLATE (300 克/升 Sn2+)

        15.0

        23.3

        高速光亮純錫 HSB 走位劑

        2.0

        2.0

        高速光亮純錫 HSB 光亮劑

        0.4

        0.4

        純水

        66.6


         

        建議工作濃度

        二價錫

        [g/l]

        45 (30 – 60)

        游離甲基磺酸

        [g/l]

        160 (140 – 220)

        高速光亮純錫 HSB 走位劑

        [ml/l]

        20.0 (15.0 – 25.0)

        高速光亮純錫 HSB 光亮劑

        [ml/l]

        4.0 (3.0 – 6.0)


        工作參數

        溫度

        30 °C (25 – 38 °C)

        電壓

        約 1 – 3 伏

        電流密度

        陰極:

        20 A/dm2 (10 – 50 A/dm2)

        強極:

        2.0 – 5.5 A/dm2

        要點:

        要達到最大的陰極電流密度,錫濃度及酸濃度是主要影響因素

        電流效益

        90 – 100 %

        沉積速度

        10 微米/分鐘(當 20 A/dm2

        要點:


        要達到的陰極電流密度,錫濃度及酸濃度是主要影響因素




        () 配制鍍液

         

         

        在開缸之前,請小心檢查鍍槽及設備,以防泄漏。

         

         

        1. 若鍍槽之前是在類似的甲基磺酸系統下使用,請將所有鍍液(包括所有喉管、過濾裝置及泵)排放干凈;

         

        2.  50-100 毫升/升的甲基磺酸液 SOLDERPLATE 清洗所有鍍槽,喉管及過濾系統,最少 3 小時,浸泡過夜更佳

         

        若鍍槽是新的,或有使用過潤滑劑、活性劑,建議用 50-100 克/升氫氧化

         

        鉀作預洗,再作以后的清洗步驟。

         

        3. 排放所有已清洗的甲基磺酸液 SOLDERPLATE(注意當地的排放規則),并以純水沖洗鍍槽、所有喉管及過濾系統,更換過濾芯;

         

        4. 注入半缸純水;

         

        5. 加入所需份量甲基磺酸液 SOLDERPLATE,并加以攪拌;

         

        6. 待溶液溫度降至 35℃,加入所需份量的甲基磺酸錫 SOLDERPLATE 并加以攪拌;

         

        7. 加入高速光亮純錫 HSB 走位劑,其后再加入高速光亮純錫 HSB 光亮劑;

         

        8. 加入純水至標準水位,開動過濾泵循環,約 15 分鐘;

         

        9. 鍍液已可使用。

         

        (四)設備

        鍍槽

        聚丙烯,聚乙烯,聚二氯乙烯或塑料內層鋼鐵

        攪拌

        陰極移動及鍍液攪拌(高速沉積速度)

        過濾

        連續過濾,無氣體 1-5 微米的聚丙烯過濾芯。建議每小時能過濾整缸鍍液 5-8 次。

        抽氣

        需要。

        加熱/冷卻

        PTFE,鈦,陶瓷。

        陽極

        純錫陽極。若需要時,可用鈦籃裝載純錫陽極,但要保證使用電壓低于 6 伏。鈦籃必須保持常滿,以防止對鈦籃的侵蝕。

        如果陽極電流密度過高,會導致不平均的陽極溶解,形成四價錫的出現。

        陽極袋

        聚丙烯。

         

        五)補充及維護

         10,000 安培小時

        高速光亮純錫 HSB 光亮劑

        2.0 – 4.0

        高速光亮純錫 HSB 走位劑

        1.0 – 2.0

              

        高速光亮純錫 HSB 光亮劑及高速光亮純錫 HSB 走位劑的消耗,取決于應用條件、設備及操作條件。帶出消耗亦會影響消耗量。

         

        游離甲基磺酸只有帶出消耗  建議定期分析

        甲基磺酸錫 SOLDERPLATE

        300 克/升 Sn2+60 克/升游離

        甲基磺酸,密度 1.54

        每補充 3.33 毫升/升甲基磺酸錫 SOLDERPL

        錫濃度 1 克/升

        游離甲基磺酸 0.2 克/升。

        甲基磺酸液 SOLDERPLATE

        945 克/升游離甲基磺酸,70%

        密度 1.35

        每補充 1.06 毫升/升甲基磺酸液 SOLDERPLATE,能增加游離甲基磺酸 1 克/升。

         

        注意:補充甲基磺酸錫 SOLDERPLATE 會增加游離甲基磺酸


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