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| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
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| 品牌 | 三工光電 | ||
| 產(chǎn)地 | 武漢 | ||
| 是否進(jìn)口 | 否 | ||
| 控制方式 | 數(shù)控 | ||
| 作用對象 | 太陽能電池 | ||
| 電流 | 交流 | ||
| 產(chǎn)品別名 | 激光刻膜機(jī)-G5 | ||
| 最大線割速度 | 1000 | ||
| 適用材質(zhì) | 太陽能電池 | ||
| 最大刻線深度 | 0.2 | ||
| 定位精度 | 0.01 | ||
| 快進(jìn)速度 | 100 | ||
| 切割頭 | 激光 | ||
| 套裝 | 100 | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
| 用途 | 切割 | ||
| 型號 | SEF-G5 | ||
SEF G5激光刻膜機(jī)
技術(shù)特點(diǎn)
采用半導(dǎo)體端面泵浦光纖耦合全固態(tài)激光器，性能指標(biāo)包括脈沖的穩(wěn)定性、脈寬、峰值功率等參數(shù)均達(dá)到世界先進(jìn)水平。
膜面朝上非接觸式工作臺設(shè)計(jì)不但能有效的解決玻璃運(yùn)行中的平穩(wěn)性，還能解決玻璃摩擦問題。
采用全自動控制，包括自動進(jìn)出料、自動識別、自動跟蹤、自動校正和自動定位。
自動校正和自動定位，這在國際還是.創(chuàng)。當(dāng)檢測到電池片缺陷時(shí)，可立即進(jìn)行重刻和補(bǔ)刻。
應(yīng)用及市場
非晶硅薄膜太陽電池的透明導(dǎo)電膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si amp;mu;c-Si）、背電極膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻線、切割），其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜）。
設(shè)備性能
該設(shè)備采用非接觸式的工作臺，不但解決了玻璃運(yùn)行中的平穩(wěn)性，還有效地解決了摩擦問題。
使用世界一流的高性能激光器，其性能指標(biāo)包括脈沖的穩(wěn)定性、脈寬、峰值功率等參數(shù)均達(dá)到世界先進(jìn)水平。
控制方面，采用全自動控制，包括自動進(jìn)出料、自動識別、自動跟蹤、自動校正和自動定位，這在國際還是.創(chuàng)。
當(dāng)檢測到電池片缺陷時(shí)，可立即進(jìn)行重刻和補(bǔ)刻；更可選擇全部檢測或抽檢。
G5”屬于高標(biāo)設(shè)備配置，國內(nèi)的客戶基本要做的是“減法”而不是“加法”。當(dāng)客戶不需要某些功能時(shí)，可根據(jù)要求去除,更可根據(jù)實(shí)際要求進(jìn)行定制。
技術(shù)參數(shù)：
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| 型號規(guī)格 | SEF-G5 |
| 有效加工幅面 | 1.1m×1.4m（或635mm×1245mm） |
| 大運(yùn)行速度 | 2000mm/s |
| 重復(fù)定位精度 | ≤10μm |
| 刻線直線度 | ≤10μm/1000mm |
| 小刻膜線寬 | 30～60μm |
| 三線外沿總寬度 | 300～500μm |
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