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| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
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| 品牌 | 邁可諾 | ||
| 發(fā)貨地 | 武漢 | ||
| 產(chǎn)地 | 德國 | ||
| 起訂量 | 250ml | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
| 型號 | MR-IT85 | ||
德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。
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MR-I T85系列
熱塑性NIL抵抗劑 基于非極性環(huán)烯烴共聚物（TOPAS）的T-NIL抗蝕劑（Tg?= 85°C）
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特征：
1）用于制造微流體或芯片實(shí)驗(yàn)室設(shè)備的薄膜厚度可能高達(dá)5 μm
2）100％有機(jī)熱塑性塑料→可以使用純氧等離子體進(jìn)行干法蝕刻和剝離
3）在紫外線/可見光范圍內(nèi)具有最高的光學(xué)透明度，并具有針對不同溶劑，酸和堿的獨(dú)特化學(xué)穩(wěn)定性
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應(yīng)用領(lǐng)域
芯片實(shí)驗(yàn)室系統(tǒng)
1）生物應(yīng)用??????????????????4）波導(dǎo)
2）微流控??????????????????????5）單層和多層系統(tǒng)
3）微光學(xué)元件??????????????6）用于圖案轉(zhuǎn)印過程的掩模
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處理步驟
玻璃化溫度??85°攝氏度
烙印溫度??130 – 150°C
壓印壓力??5 – 20巴
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適用于各種膜厚（3000 rpm）*?
mr-I?T85-0.3???300?nm
mr-I?T85-1.0???1.0?μm
mr-I?T85-5.0????5.0?μm
*可根據(jù)要求提供定制的膜厚
邁可諾技術(shù)有限公司
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