真空射頻等離子處理器小型等離子清洗機(jī)培養(yǎng)皿表面活化處理儀

等離子清洗機(jī)是利用氣體高壓放電，然后把氣體分解成等離子體；我們?nèi)粘Ｉ钪谐Ｒ姷挠幸后w，固體和氣體，氣體再升華就形成了等離子體，也就是物質(zhì)的第四種形態(tài)，我們也稱為輝光，所以真空等離子清洗機(jī)也叫輝光等離子清洗機(jī)。

等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)：

1.等離子清洗機(jī)不需要?dú)鈶B(tài)材料進(jìn)行輔助，減少清潔成本。

2.跟自動(dòng)化設(shè)備進(jìn)行配套使用，可以提高清洗產(chǎn)能。

3.等離子清洗機(jī)是利用輝光進(jìn)行清洗機(jī)，可以說是 的，不用擔(dān)心材料表面凹凸不平，而達(dá)不到清潔效果。

4.可以同時(shí)處理金屬，塑料，半導(dǎo)體，氧化物，或者是高分子材料都可以處理。

5.由于等離子主要是分解掉有機(jī)污染物，所以不用擔(dān)心污染或危害健康。

6.清潔過后不用打掃工作場(chǎng)所，保持生產(chǎn)環(huán)境的潔凈。

7.在清洗過程當(dāng)中可以改善材料表面的活性，親水性，提高材料表面的達(dá)因值。

??? 等離子通常稱作物質(zhì)的第四種狀態(tài)，前三種狀態(tài)是固體、液體、氣體，它們是比較常見的，就存在于我們周圍。等離子在地球上只存在于某種特定環(huán)境，如閃電、極光。就好象把固體轉(zhuǎn)變成氣體需要能量一樣，產(chǎn)生離子體也需要能量。一定量的離子體是由帶電粒子和中性粒子（包括原子、離子和自由粒子）混合組成。離子體能夠?qū)щ姟?/p>

等離子技術(shù)的應(yīng)用：
??? 通過對(duì)物體表面進(jìn)行等離子轟擊，可以達(dá)到對(duì)物體表面的蝕刻，活化，清洗等目的。可以顯著加強(qiáng)這些表面的粘性及焊接強(qiáng)度，等離子表面處理系統(tǒng)現(xiàn)正應(yīng)用于LCD，LED，IC，PCB，SMT，BGA，引線框架，平板顯示器的清洗和蝕刻。等離子清洗過的IC可顯著提高焊線強(qiáng)度，減少電路故障的可能性。殘余的感光阻劑、樹脂，溶液殘?jiān)捌渌袡C(jī)污染物暴露于等離子體區(qū)，短時(shí)間內(nèi)就能 。PCB制造商用等離子蝕刻系統(tǒng)進(jìn)行去污和蝕刻來帶走鉆孔中的絕緣物。對(duì)許多產(chǎn)品，不論它們是應(yīng)用于工業(yè)。電子、航空、健康等行業(yè)，可靠性都依靠于兩個(gè)表面之間的粘結(jié)強(qiáng)度。不管表面是金屬、陶瓷、聚合物、塑料或是其中的復(fù)合物，等離子體都有潛能改進(jìn)粘著力，提高 終產(chǎn)品質(zhì)量。等離子體改變?nèi)魏伪砻娴哪芰κ前踩摹?的、經(jīng)濟(jì)的。它是許多行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)問題的可行的解決方案。

等離子處理的原理：
??? 給一組電極通上射頻電源，電極之間形成高頻交變電場(chǎng)，區(qū)域內(nèi)氣體在交變電場(chǎng)的激蕩下，形成等離子體，活性等離子對(duì)物體表面進(jìn)行物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用，使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過抽真空排出，而達(dá)到表面處理的目的。
??? 在整個(gè)等離子處理過程中，影響等離子處理效果的要素包括過程溫度、射頻功率、氣體分配、真空度、電極設(shè)置、靜電保護(hù)等等?

一、清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個(gè)工藝流水線的處理效率；
二、等離子清洗使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害，同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問題；

三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于 的綠色清洗方法。這在全球高度關(guān)注 的情況下越發(fā)顯出它的重要性；
四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好；
五、使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn)；
六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達(dá)到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高，加上清洗過程不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝；
七、使用等離子清洗，避免了對(duì)清洗液的運(yùn)輸、存儲(chǔ)、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場(chǎng)地很容易保持清潔衛(wèi)生；
八、等離子體清洗可以不分處理對(duì)象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物，還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物）都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗；
九、在完成清洗去污的同時(shí)，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤(rùn)濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都

PT-10ST
腔體材質(zhì)：? ? 不銹鋼表面處理
供電電源： AC220V
工作電流： 整機(jī)工作電流不大于1.2A(不含真空泵)
射頻電源功率： 0-300W可調(diào)（射頻匹配一體）
射頻頻率： 13.56MHz
頻率偏移量： 小于0.2KHz
特性阻抗： 50歐姆，自動(dòng)匹配
真空度： 1pa-30Pa
氣體路數(shù)： 雙路氣體輸入（高精密浮子流量計(jì)）
氣體流量： 10—160ml/min(可調(diào))
過程控制： PLC人機(jī)界面自動(dòng)與手動(dòng)方式
清洗時(shí)間： 1-99999秒鐘可調(diào)
功率大小：10-100可調(diào)
內(nèi)腔尺寸：220×260×200mm? L×W×H? ? 10L
外形尺寸： 650×550×580mm L×W×H
真空泵： 2XZ-4（抽速4L/S）?
真空室溫度： 小于30°C
冷卻方式： 強(qiáng)制風(fēng)冷